LH-RTA-B快速退火爐RTP
產地：中國
型號：LH-RTA-B
簡介（Description）：
B系列半自動快速退火爐，適用于多規格尺寸（9片4英寸，4片6英寸，1片8英寸）硅片、第二代、第三代化合物材料等（包括但不限于，磷化銦、砷化鎵、碳化硅、氮化鎵等各類襯底和外延片），擁有出色的熱源和結構設計。獨有專利的溫度控制系統，能更為精準進行溫控操作，可視化軟件平臺，實時對腔室溫度進行監控并矯正，保證工藝的穩定性和重復性。雙面加熱方式與單面加熱相比，可以大幅減小圖案加載效應，晶片上熱的均勻性將更好。1-5路氣體配置（可定制），可抽真空腔體。設備國產化率達到95%以上，配件渠道豐富。
定義（Definition）：
快速熱處理（RTP）設備是一種單片熱處理設備，可以將晶圓的溫度快速升至工藝所需溫度（200-1300℃），并且能夠快速降溫，升/降溫度速率約20-250℃。RTP設備還具有其他優良的工藝性能，如極佳的熱預算和更好的表面均勻性，尤其對大尺寸的晶圓片。多用于修復離子注入后的損傷，多腔體規格可以同時運行不同的工藝過程。
名詞解釋RTA：Rapid Thermal Annealing 快速熱退火。
名詞解釋RTO：Rapid Thermal Oxidation 快速熱氧化，主要用于生長薄絕緣層。
名詞解釋RTN：Rapid Thermal Nitridation 快速熱氮化。
推薦適用場景：碳化硅氮化鎵等化合物外延制造，IGBT、MOSFET功率器件研發制造，MEMS研發制造,LED芯片，miniLED，microLED等。
設備規格（Specifications）：
1、適用于2、4、6、8英寸 Wafer（雙腔體可擺放9片4英寸或4片6英寸或1片8英寸材料進行加熱處理）；
2、冷卻方式包括水冷和氮氣吹掃（循環常溫水冷卻，軟件可視化監控管理，防止外壁過熱，內置氮氣管路，吹掃腔體，保持清潔，極速降溫）；
3、MFC控制，1-5路制程氣體。（品牌MFC控制器，內置多路氣氛管路，可定制開通，滿足各類測試工藝需求）；
4、退火溫度范圍 300℃-1000℃（常規硅基材料溫度適用于850℃，第三代半導體材料最大可到1350℃）；
5、升溫速率 ≦150℃/秒（升溫速度隨不同的材料及裝置會有差異，標準數據是裸片放置內測量后得出，150攝氏度每秒是常規溫度速率，加熱設備的極限會更高）；
6、Windows操作系統；（高性能工業電腦，搭載windows操作系統，larcomse專屬軟件操作，上手簡單，系統功能強大，各類數據可視化程度高，內容豐富，亦可定制軟件模塊）；
7、配置真空系統（有定壓功能，滿足常規真空要求，使用分子泵能達到更高的真空度，能定制真空度）；
8、多只紅外鹵素光源（根據需求可配置數量不等的燈管，以滿足工藝加熱要求）。
設備主要工藝應用（Application）：
●快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；
●離子注入/接觸退火；
●高溫退火；
●高溫擴散;
●金屬合金；
●熱氧化處理。
設備主要應用領域（Field）：
●化合物半導體（磷化銦、砷化鎵、氮化物、碳化硅等）；
●多晶硅；
●太陽能電池片；
●MEMS等傳感器；
●二極管、MOSFET及IGBT等功率器件；
●LED、CMOS等光電器件；
●IC晶圓。
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